Установка магнетронного напыления «КРАУДИОН-М3-15/2Ф»

KRAUDION-M3-15_2F.pdf
(PDF, 552.11kB)
 

Установка «КРАУДИОН-М3-15/2Ф» предназначена для нанесения:
-покрытий любых материалов (металлы, полупроводники, диэлектрики), независимо от их электропроводности и состава, методом конфокального магнетронного распыления изготовленных из них мишеней на постоянном токе (DC, DС pulsed) или ВЧ распыления (RF) в среде рабочего газа (аргон);
-покрытий соединений электропроводящих материалов в том числе диэлектрических, распылением на постоянном токе (DC, DС pulsed) в смеси аргона с реактивным газом (кислород, азот, …);
-композиционных покрытий, в том числе чередующихся, многослойных или градиентных по составу, совместным распылением из двух или трех конфокальных магнетронов.
Установка «КРАУДИОН-М3-15/2Ф» обеспечивает проведение следующих технологических операций:
-загрузка напыляемой подложки на подложкодержатель;
-высоковакуумная безмасляная откачка вакуумной технологической камеры;
-предварительный нагрев для обезгаживания подложки в вакууме при вращении подожкодержателя до температуры ≤300°С и поддержание этой температуры в течение заданного времени;
-предварительная ионно-плазменная очистка подложки на подложкодержателе при подаче отрицательного постоянного напряжения или ВЧ напряжения смещения;
-конфокальное магнетронное напыление пленок на подложку при вращении подложкодержателя вокруг своей оси;
-контроль толщины напыляемых пленок в процессе напыления и автоматическое завершение процесса напыления по кварцевому датчику;
-контроль температуры подложки при ее обезгаживании, ионно-плазменной очистке и во время процесса напыления при помощи пирометра.
Система управления построена на базе промышленного ПЛК и сенсорной операторской 15” панели управления
Конфокальную напылительную систему установки в базовом варианте оснащения составляют:
-2 универсальных DC/RF магнетрона тока РМ1-70-02А с функцией изменения расстояния до подложки, с индивидуальными заслонками с пневмоприводом;
-легкосъемный экранированный изолированный подложкодержатель SH-150-RBТW с функцией подачи DC/RF напряжения смещения;
-нагреватель подложки HGL-3-1500 с заслонкой с пневмоприводом;
На установке также имеются: двухканальная система напуска газов; кварцевый датчик с пневмозаслонкой и контроллер толщины пленок, система съемных экранов и механизм подъема/опускания верхнего фланца.
Опции для дооснащения установки: третий магнетрон; источник ионов; пирометр для бесконтактного контроля температуры подложки; ВЧ генератор (300 Вт, 13.56 МГц) с согласующим устройством; заслонка подложкодержателя с пневмоприводом; механизм опускания/подъема нижнего фланца; промышленный компьютер.
  
 
  
 
Размеры вакуумной камеры, мм Ø420×h345
Скорость откачки турбомолекулярного насоса, л/сек 340
Предельное остаточное давление в вакуумной камере, Торр ≤1×10-6
Количество магнетронов 2 (3 – опция)
Размеры мишеней магнетронов, мм Ø72/70×h6÷10
Размеры подложки, мм ≤Ø125
Диапазон регулирования расстояния от мишени магнетрона до подложки, мм 80÷160
Параметры магнетронов РМ1-70-02А:  
      -рабочее давление, Торр 1×10–3÷5×10-2
      -напряжение разряда, В -400÷-800
      -ток разряда, А 0.05÷3.0
Параметры процесса ионно-плазменной очистки (режим DC):  
     -рабочее давление, Торр 1×10–3÷1×10-1
     -напряжение разряда, В -50÷-1000
     -ток разряда, мА ≤300
Максимальная температура нагрева подложки, °С +300
Скорость вращения подложкодержателя, об/мин 30
Относительная неравномерность толщины напыляемых покрытий на подложке Ø70 мм, % ≤±2.5
Максимальная электрическая мощность, потребляемая установкой в установившемся режиме, кВА не более 6
Расход воды на охлаждение, л/час не более 600
Габаритные размеры установки:
 
     -вакуумная стойка, мм
700×1250×h1800
     -стойка питания и управления, мм
600×600×h1810
     -откачной форвакуумный агрегат 624×206×h602

  

 

 

 

 

К списку продукции

Новости

Контактная информация

Адрес:        117105, г. Москва, Нагорный проезд, д. 7, стр. 1
Телефон:   +7(495)580-3410
Факс:           +7(495)580-3410
Email:           plasma@iontecs.ru