Установка «КРАУДИОН-М3-15/2Ф» предназначена для нанесения:
-покрытий любых материалов (металлы, полупроводники, диэлектрики), независимо от их электропроводности и состава, методом конфокального магнетронного распыления изготовленных из них мишеней на постоянном токе (DC, DС pulsed) или ВЧ распыления (RF) в среде рабочего газа (аргон);
-покрытий соединений электропроводящих материалов в том числе диэлектрических, распылением на постоянном токе (DC, DС pulsed) в смеси аргона с реактивным газом (кислород, азот, …);
-композиционных покрытий, в том числе чередующихся, многослойных или градиентных по составу, совместным распылением из двух или трех конфокальных магнетронов.
Установка «КРАУДИОН-М3-15/2Ф» обеспечивает проведение следующих технологических операций:
-загрузка напыляемой подложки на подложкодержатель;
-высоковакуумная безмасляная откачка вакуумной технологической камеры;
-предварительный нагрев для обезгаживания подложки в вакууме при вращении подожкодержателя до температуры ≤300°С и поддержание этой температуры в течение заданного времени;
-предварительная ионно-плазменная очистка подложки на подложкодержателе при подаче отрицательного постоянного напряжения или ВЧ напряжения смещения;
-конфокальное магнетронное напыление пленок на подложку при вращении подложкодержателя вокруг своей оси;
-контроль толщины напыляемых пленок в процессе напыления и автоматическое завершение процесса напыления по кварцевому датчику;
-контроль температуры подложки при ее обезгаживании, ионно-плазменной очистке и во время процесса напыления при помощи пирометра.
Система управления построена на базе промышленного ПЛК и сенсорной операторской 15” панели управления
Конфокальную напылительную систему установки в базовом варианте оснащения составляют:
-2 универсальных DC/RF магнетрона тока РМ1-70-02А с функцией изменения расстояния до подложки, с индивидуальными заслонками с пневмоприводом;
-легкосъемный экранированный изолированный подложкодержатель SH-150-RBТW с функцией подачи DC/RF напряжения смещения;
-нагреватель подложки HGL-3-1500 с заслонкой с пневмоприводом;
На установке также имеются: двухканальная система напуска газов; кварцевый датчик с пневмозаслонкой и контроллер толщины пленок, система съемных экранов и механизм подъема/опускания верхнего фланца.
Опции для дооснащения установки: третий магнетрон; источник ионов; пирометр для бесконтактного контроля температуры подложки; ВЧ генератор (300 Вт, 13.56 МГц) с согласующим устройством; заслонка подложкодержателя с пневмоприводом; механизм опускания/подъема нижнего фланца; промышленный компьютер.
Размеры вакуумной камеры, мм | Ø420×h345 |
Скорость откачки турбомолекулярного насоса, л/сек | 340 |
Предельное остаточное давление в вакуумной камере, Торр | ≤1×10-6 |
Количество магнетронов | 2 (3 – опция) |
Размеры мишеней магнетронов, мм | Ø72/70×h6÷10 |
Размеры подложки, мм | ≤Ø125 |
Диапазон регулирования расстояния от мишени магнетрона до подложки, мм | 80÷160 |
Параметры магнетронов РМ1-70-02А: | |
-рабочее давление, Торр | 1×10–3÷5×10-2 |
-напряжение разряда, В | -400÷-800 |
-ток разряда, А | 0.05÷3.0 |
Параметры процесса ионно-плазменной очистки (режим DC): | |
-рабочее давление, Торр | 1×10–3÷1×10-1 |
-напряжение разряда, В | -50÷-1000 |
-ток разряда, мА | ≤300 |
Максимальная температура нагрева подложки, °С | +300 |
Скорость вращения подложкодержателя, об/мин | 30 |
Относительная неравномерность толщины напыляемых покрытий на подложке Ø70 мм, % | ≤±2.5 |
Максимальная электрическая мощность, потребляемая установкой в установившемся режиме, кВА | не более 6 |
Расход воды на охлаждение, л/час | не более 600 |
Габаритные размеры установки:
|
|
-вакуумная стойка, мм
|
700×1250×h1800 |
-стойка питания и управления, мм
|
600×600×h1810 |
-откачной форвакуумный агрегат | 624×206×h602 |
К списку продукции