Установка «КРАУДИОН-М1-11/2Ф» предназначена для нанесения покрытий электропроводящих материалов магнетронным распылением изготовленных из них мишеней в среде инертного газа.
Установка обеспечивает проведение следующих технологических операций:
-безмасляная высоковакуумная откачка вакуумной технологической камеры;
-предварительная ионная очистка подложек;
-отпыливание загрязненных поверхностных слоев мишеней магнетронов на автономные заслонки;
-нанесение покрытий на плоские подложки и на мелкие образцы, имеющие сферическую форму;
-магнетронное нанесение покрытий различных материалов, в том числе совместным одновременным распылением мишеней двух или трех магнетронов с функцией 3D-регулирования для получения нанокомпозитных, чередующихся или градиентных по составу покрытий;
— кварцевый контроль толщины напыляемых покрытий.
Напылительную систему установки составляют:
-кластер из трех магнетронов РМ1-40-02А-3D с функцией 3D-регулирования с внешним управлением и автономными заслонками;
-2 сменных подложкодержателя:
-столик для напыления на плоские подложки;
-вибростолик для сферических образцов.
| Предельное остаточное давление в вакуумной камере, Торр | ≤1.0×10-6 |
| Размеры мишеней магнетронов, мм | Ø40/42×h2÷6 |
| Размеры подложек, мм | |
| -плоских, мм | Ø10÷40 |
| -сферической формы, мм | Ø1÷2 |
| Угол наклона магнетронов: | |
| -режим 1 | 28° |
| -режим 2 | 40° |
| Параметры магнетронов РМ1-40/1-02А-3D: | |
| -рабочее давление, Торр | 2×10–3÷5×10-2 |
| -напряжение разряда, В | -400÷-750 |
| -ток разряда, А | 0.05÷1.5 |
| Диапазон регулирования напряжения смещения на столике подложкодержателя, В | -10÷-1200 |
|
Относительная неравномерность толщины напыляемых покрытий на подложке Ø40 мм
при конфокальном напылении на вращающуюся подложку, %
|
≤±5 |
| Скорость напыления, мкм/час | ≤15 |
| Размеры вакуумной камеры, мм | Ø450×h250 |
| Габаритные размеры установки, мм | 1300×800×h1620 |
К списку продукции