Установка обеспечивает проведение следующих технологических операций:
-безмасляная высоковакуумная откачка вакуумной технологической камеры с применением жидкого азота;
-предварительный нагрев подложек до температуры ≤350°С и поддержание заданной температуры во время процессов ионной очистки и напыления;
-отпыливание поверхностных (загрязненных) слоев мишеней магнетронов на заслонку;
-нанесение пленок электропроводящих материалов магнетронным распылением на постоянном токе;
-нанесение диэлектрических пленок:
-ВЧ магнетронным распылением мишеней из диэлектриков;
-магнетронным распылением на постоянном токе (режим DC pulsed, ≤40 кГц) мишеней из электропроводящих материалов в смеси инертного и реактивного газов (реактивное распыление);
-чередование процессов DC и RF магнетронного распыления;
-кварцевый контроль толщины напыляемых пленок;
-контроль ресурса мишеней магнетронов.
Система управления установкой построена на базе промышленного ПЛК и сенсорной операторской панели управления.
Установка «КРАУДИОН-М3-09/2» применяется для напыления пьезоэлетрических пленок ZnO в производстве устройств на поверхностных акустических волнах (ПАВ) и объемных акустических волнах (ОАВ). Опыт безотказной эксплуатации – 5 лет.
Напылительную систему установки составляют:
-магнетрон постоянного тока РМ1-150-02А;
-ВЧ магнетрон РМ1-150-02А/RF c cогласующим устройством;
-заслонка магнетронов;
-источник ионов IST-100-02WA/WB;
-вращающаяся карусель с позициями для размещения пластин Ø100 мм;
-резистивные нагреватели (3 снизу карусели);
-система кварцевого контроля толщины напыляемых покрытий (кварцевый датчик толщины с индивидуальной заслонкой);
-система съемных экранов.
Дополнительные опции:
-полностью безмасляная высоковакуумная откачка с применением турбомолекулярного или криогенного насоса;
-сменные карусели с кассетами для напыления на 24 подложки размерами 60×48 мм;
-индивидуальные заслонки магнетронов;
-напряжение смещения на карусели (DC, RF).
Размеры вакуумной камеры, мм | Ø600×h300 |
Параметры системы вакуумной откачки: | |
-скорость откачки форвакуумного насоса, л/сек | 16 |
-скорость откачки высоковакуумного насоса, л/сек | 2350 |
Предельное остаточное давление в вакуумной камере, Торр | ≤1×10-6 |
Размеры подложек, мм | Ø100 |
Количество подложек Ø100 мм на карусели, штук | 8 |
Размеры мишеней магнетронов, мм | Ø152.5/150×h6÷16 |
Параметры магнетронов РМ1-150-02A: | |
-рабочее давление, Торр | 1×10–3÷5×10-2 |
-напряжение разряда, В | -400÷-750 |
-ток разряда, А | 0.05÷10.0 |
Мощность блока питания магнетронов, кВт | 3.0 (опция – 6.0) |
Выходная мощность ВЧ генератора, кВт | 1.0 (опция -2.0) |
Отраженная ВЧ мощность при работе ВЧ магнетрона РМ1-150-02А/RF, Вт | не более 20 |
Рабочая частота ВЧ генератора, МГц | 13.56 |
Максимальная температура нагрева подложек, °С | +350 |
Скорость вращения карусели, об/мин | 10÷60 |
Относительная неравномерность толщины напыляемых покрытий на подложках Ø100 мм, % | ≤±5 |
Расстояние от подложек на карусели до мишени магнетрона, мм | 60÷110 |
Максимальная электрическая мощность, потребляемая установкой в установившемся режиме, кВА | не более 10 |
Расход воды на охлаждение, л/час | не более 600 |
Габаритные размеры установки: | |
-вакуумная стойка, мм | 1960×780×h1890 |
-стойка питания и управления, мм | 600×600×h2040 |
-ВЧ генератор, мм | 600×600×h1900 |
-форвакуумный насос с ловушкой, мм | 449×462×h467 |
К списку продукции