Установка «КРАУДИОН-М2-17/2» предназначена для магнетронного нанесения покрытий металлов, полупроводников и диэлектриков на плоские и другие типы подложек.
Установка обеспечивает проведение следующих технологических операций:
– безмасляная высоковакуумная откачка вакуумной технологической камеры;
– предварительный нагрев подложек на барабане до заданной температуры;
– отпыливание мишеней 2-х магнетронов на заслонки;
– групповая обработка подложек: предварительная ионная очистка и нанесение покрытий одним или двумя магнетронами на поверхность подложек;
– кварцевый контроль толщины покрытий, напыляемых каждым магнетроном;
– управление от промышленного ПЛК с сенсорной операторской панелью 15”: ручной, полуавтоматический и автоматический режимы работы.
Напылительную систему установки составляют:
– источник ионов IST-210-02WA/WB (рабочая зона ИСТОЧНИК ИОНОВ);
– 2 универсальных DC/RF магнетрона РМ1-300×80-02WA c заслонками (рабочие зоны МАГНЕТРОН-1 и МАГНЕТРОН-2);
– 14-тигранный вертикальный барабан со съемными держателями подложек и с приводом вращения;
– нагреватели (вакуумные ТЭНы) напротив барабана (2 штуки, рабочая зона НАГРЕВ);
– 2 кварцевых датчика толщины с индивидуальными заслонками;
– система внутрикамерных пристеночных и разделительных экранов.
Практическое применение:
– напыление барьерных слоев Mo и коммутационных слоев Ni на подложках Bi₂Te₃
На установке реализованы следующие функции:
– четкое разделение вакуумной технологической камеры на рабочие зоны, исключение взаимного влияния технологических устройств;
– возможность регулирования расстояния от мишеней 2-х магнетронов до подложек на барабане для оптимизации электронного воздействия из разряда на подложки и равномерности напыления;
– удобство демонтажа 2-х магнетронов и источника ионов при помощи специальных механизмов извлечения (и опрокидывания в горизонтальное положение) из окон вакуумной камеры для замены мишеней и обслуживания;
– удобство загрузки подложек на барабане при помощи съемных держателей подложек;
– для охлаждения вакуумной камеры и технологических устройств применяется чиллер с водяным охлаждением;
– магнетронное распыление сплошных непрофилированных мишеней из ферромагнитных материалов;
– дополнительные опции: ВЧ магнетронное распыление диэлектрических мишеней (режим RF), вариации исполнения катодов и магнитных систем магнетронов (легкозаменяемые, модульная сборка).
-
- Магнетрон РМ1-300×80-02WA
-
- Барабан
-
- Источник ионов IST-300×80-02WA
| Внутренние размеры вакуумной камеры (длина×ширина×глубина), мм | 510×600×520 |
| Скорость откачки турбомолекулярного насоса, л/сек | 1300 |
| Предельное остаточное давление в вакуумной камере, Торр | ≤2×10-6 |
| Размеры мишеней магнетронов (длина×ширина×толщина), мм | 304/300×84/80×6÷16 |
| Ход регулирования расстояния «мишень-подложка», мм | 60÷100 |
| Количество стандартных держателей подложек на барабане, штук | 14 |
| Размеры стандартных держателей подложек (высота×ширина), мм | 210×85 |
Количество обрабатываемых подложек на планетарной карусели (относительная неравномерность толщины d≤±5%): | |
| – Ø76 мм, штук; | 28 |
| – 60×48 мм, штук | не менее 42 |
| Полезная площадь запыления на барабане, см² | 2500 |
| Скорость вращения барабана, об/мин | 10÷30 |
| Максимальная температура нагрева деталей, °С | 250 |
Параметры источника ионов IST-210-02WA/WB: | |
– рабочее давление, Торр | 1×10-4÷1×10-3 |
– напряжение разряда, В | +3000 |
| – ток разряда, А | 200 |
| Параметры магнетронов РМ1-300×80-02/WA: | |
| – рабочее давление, Торр | 5×10-4÷5×10-3 |
| – напряжение разряда, В | -400÷-800 |
| – ток разряда, А | 0.05÷8.5 |
| Количество 2-хканальных блоков питания магнетронов, штук | 2 |
| Мощность блока питания магнетрона, кВт | 5.0 |
Габаритные размеры установки (длина×ширина×высота): | |
– вакуумная стойка (со съемными механизмами извлечения магнетронов), мм | 1693×1005×1923 |
– стойка питания и управления, мм | 600×800×1805 |
| – сухой форвакуумный насос, мм | 582×380×412 |
| – чиллер, мм | 592×340×976 |
К списку продукции