Установка «КРАУДИОН-М1-11/2» предназначена для нанесения покрытий электропроводящих материалов магнетронным распылением изготовленных из них мишеней в среде инертного газа.
Установка обеспечивает проведение следующих технологических операций:
-безмасляная высоковакуумная откачка вакуумной технологической камеры;
-предварительная ионная очистка подложек;
-отпыливание загрязненных поверхностных слоев мишеней магнетронов на автономные заслонки;
-поштучное (режим позиционирования подложек) и совместное (групповая обработка подложек) нанесение тонкопленочных покрытий;
-магнетронное нанесение покрытий различных материалов, в том числе совместным одновременным распылением мишеней двух магнетронов с функцией 3D-регулирования для получения нанокомпозитных, чередующихся или градиентных по составу покрытий;
-кварцевый контроль толщины напыляемых покрытий.
Напылительную систему установки составляют:
-источник ионов IST-70-02WA
-один или два магнетрона РМ1-100-02А-3D с ручной функцией 3D-регулирования и автономными заслонками;
-карусель с подложками.
Предельное остаточное давление в вакуумной камере, Торр | ≤1.0×10-6 |
Размеры мишеней магнетронов, мм | Ø100/98×h6÷12 |
Размеры подложек, мм | 50×50 (Ø70) |
Количество подложек на карусели, штук | 8 |
Параметры магнетронов РМ1-40-02А-3D: | |
-рабочее давление, Торр | 2×10–3÷5×10-2 |
-напряжение разряда, В | -400÷-750 |
-ток разряда, А | 0.05÷6.0 |
Мощность блока питания магнетронов, кВт | 3.0 |
Относительная неравномерность толщины напыляемых покрытий на подложке 50×50 (Ø70) мм в режиме позиционирования | ≤±10 |
Толщина напыляемых покрытий, мкм | 0.001÷1000 |
Размеры вакуумной камеры, мм | Ø450×h370 |
Габаритные размеры установки, мм | 1200×760×h1275/h1630 |
К списку продукции